HG/T 4299-2018.Glass-lined wiped film evaporator-Structure and parameters.
1范围
HG/T 4299规定了搪玻璃薄膜蒸发器的型式、基本参数及主要尺寸、要求、铭牌、出厂文件、包装、运输和贮存。
HG/T 4299适用于器内设计压力大于-0.1 MPa至0. 25 MPa,夹层内设计压力小于或等于0. 6 MPa,设计温度小于200C，蒸发面积1㎡~15㎡，由刮片强制成膜的降膜式搪玻璃薄膜蒸发器。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文
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HG/T 2050搪玻璃设备垫片
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HG/T 4299-2018 代替 HG/T 4299-2012 搪玻璃薄膜蒸发器结构形式和基本参数
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